-- Penggabungan dapat mewujudkan syarikat sampingan bebas yang memberi tumpuan terhadap usaha mewujudkan peluang pasaran nanoteknologi
AUSTIN, Texas, 14 Februari 2014 /PRNewswire/ -- Molecular Imprints Inc. (MII), peneraju pasaran dan teknologi bagi sistem serta penyelesaian penghasilan pola nano, hari ini mengumumkan syarikat ini telah memeterai perjanjian untuk menjual perniagaan peralatan litografi cetakan semikonduktor kepada Canon Inc. dari Tokyo, Jepun. Pada masa kini, Canon mengeluarkan dan turut memasarkan laser eksimer KrF serta platform litografi optik pencahayaan i-line. Canon telah memulakan penyelidikan tentang teknologi cetakan nano pada tahun 2004 untuk memasuki pasaran peralatan litografi bagi penghasilan pola beresolusi tinggi yang unggul. Sejak tahun 2009, Syarikat ini telah menjalankan usaha pembangunan bersama MII serta pengeluar semikonduktor utama bagi pengeluaran besar-besaran dengan menggunakan teknologi Jet and Flash™ Imprint Lithography (J-FIL™) milik MII.
(Logo: http://photos.prnewswire.com/prnh/20100504/MILOGO)
"Selepas mewujudkan kerjasama perniagaan bersama Canon pada empat tahun lalu untuk menyediakan penyelesaian litografi nano yang berkos rendah serta berteknologi untuk industri semikonduktor, saya amat berbangga dengan kemajuan hebat yang telah dicapai dalam usaha memenuhi matlamat kerjasama ini. Berikutan kejayaan ini, penggabungan yang dilakukan merupakan langkah seterusnya bagi kedua-dua syarikat kami," ujar Mark Melliar-Smith, Ketua Pegawai Eksekutif Molecular Imprints.
Pada tahun 2011, Canon telah melancarkan Fasa IV bagi Rancangan Syarikat Global Cemerlang dan salah satu daripada strateginya melibatkan pembangunan perniagaan menerusi kepelbagaian pada peringkat global. "Pengambilalihan MII ini bakal mengukuhkan unit perniagaan 'Industri dan Lain-lain' milik kami," ulas Ketua Pegawai Teknikal Canon, Dr. Toshiaki Ikoma. "Kami amat teruja dengan peluang yang diberikan bagi mengeluarkan semikonduktor inovatif ini dan amat berharap dapat memantapkan kebolehan pembangunan teknologi canggih di Austin, Texas."
Molecular Imprints telah ditubuhkan berdasarkan teknologi yang dibangunkan di Universiti Texas, Austin (UT) oleh Profesor SV Sreenivasan dan juga Profesor Grant Willson. Selama beberapa tahun yang lalu, Molecular Imprints telah bekerjasama dengan Canon dan juga rakan infrastruktur lain dalam industri semikonduktor bagi membolehkan industri ini terus menggunakan Hukum Moore dengan mengurangkan had resolusi serta meningkatkan beban kos litografi EUV serta optik. Penggunaan J-FIL pada peringkat awal dengan tujuan pengeluaran adalah dirancang bagi ingatan FLASH lanjutan untuk tempoh dua tahun akan datang.
Sementara Canon menyambut penyertaan J-FIL ke dalam usaha penghasilan semikonduktor lanjutan, perjanjian penggabungan ini turut membolehkan penubuhan syarikat baharu yang akan terus mengekalkan nama "Molecular Imprints" dan akan mempunyai kelebihan permulaan hebat dengan mengekalkan kakitangan utama serta hak milikan bersama Canon kepada portfolio IP MII, berserta berbilang platform sistem yang bertujuan untuk menampung keperluan yang meningkat bagi penghasilan pola berskala nano untuk aplikasi bioperubatan serta elektronik pengguna. "Kami akan terus menyediakan penyelesaian pengeluaran berskala nano yang berkos rendah untuk pasaran paparan, pemacu cakera keras, bioteknologi serta pasaran baharu yang lain," kata David Gino, Ketua Pegawai Operasi Molecular Imprints. En. Gino akan dilantik sebagai Ketua Pegawai Eksekutif Molecular Imprints yang baharu setelah syarikat tersebut berjaya ditubuhkan sebelum tamatnya perjanjian penggabungan bersama Canon.
Penggabungan ini dijangkakan lengkap sepenuhnya menjelang bulan April 2014 setelah mendapat kelulusan daripada pemegang saham utama serta kerajaan.
Latar Belakang Molecular Imprints, Inc.
Molecular Imprints, Inc. (MII) merupakan peneraju teknologi bagi sistem dan penyelesaian penghasilan pola nano beresolusi tinggi dengan hak milik yang berkos rendah. MII turut memanfaatkan teknologi Jet and Flash™ Imprint Lithography (J-FIL™) yang inovatif untuk menjadi peneraju teknologi sedunia daripada segi penyelesaian penghasilan pola dalam jumlah yang tinggi untuk peranti semikonduktor, di samping memperkenalkan pasaran baharu yang melibatkan paparan, pemacu cakera keras serta bioteknologi. MII turut membolehkan penghasilan pola berskala nano dengan menyediakan penyelesaian litografi cetakan pada harga yang berpatutan serta mampu dipanjangkan sehingga dimensi berukuran sub-20 nanometer.
Maklumat Perhubungan Korporat
Paul Hofemann
Molecular Imprints Inc.
+1-512-225-8441
phofemann@molecularimprints.com
